20121026日経産業新聞9面
「マイクロバブル」と呼ばれる微細な気泡を活用した洗浄や水質浄化の開発が進んでいる。直径50マイクロメートル以下のマイクロバブルが消えるときフリーラジカル(水酸基ラジカル)と呼ばれる物質が発生する。これを活用した半導体洗浄装置を瀬戸技研工業が開発した。ノズルから直径20~70マイクロメートルのオゾンの泡を吹き付けフォトレジストを取り除く。通常のオゾン水に比べて除去速度が2倍となった。洗浄工程は半導体製造工程の3~4割を占めるので、新装置により薬液と排水処理費用の大幅な削減が可能となる。マイクロバブルは複写機のトナー工場の排水処理やアオコの発生抑制にも利用されている。
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