半導体向け先端微細化周辺材料、反射防止コーティング材など、開発を加速(日産化学)

20121109電波新聞4面

　半導体微細化の進展に対応した先端微細化周辺材料の開発を日産化学が加速している。反射防止コーティング剤「BARC」はシリコン基板の加工にあたりレジストの下に塗布され、露光時の光の反射による線幅の乱れを防止するもので、同社は東アジア地区でトップシェア。マルチレイヤープロセス用材料、EUV(極紫外線)用材料も取り扱う。