ニコンが新型露光装置、線幅22ナノ以降に対応、処理枚数1割多く

20120202日経産業新聞7面

　ニコンは半導体ウエハーに回路を転写する露光装置の新型として、1時間当たりのウエハー処理枚数を200枚、重ね合わせ精度で2ナノメートルと性能を高めた装置を発売する。光源としてフッ化アルゴンを使用し、液浸で回路を転写する。回路を2回に分けて転写するダブルパターンニングにも対応した。同社は最先端の微細化に対応した露光装置で世界シェアを20%から40%まで高めることを目指している。