2011年12月6日火曜日

回路転写精度3ナノ、ニコンが半導体露光装置

20111206日経産業新聞4
 ニコンは半導体ウエハーの回路を転写で、ArF(フッ化アルゴン)を光源として使い、重ね合わせ精度を従来の7ナノメートルから3ナノメートルに向上させた露光装置を開発した。生産能力も従来製品の約2倍の毎時200枚以上まで高めた。価格は145億円。

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