2013年6月14日金曜日

ナノリソグラフィ研究所設立、蘭ASMLが産学官で

20130614電波新聞2面

 オランダのASMLは同国の物理基礎研究財団(FOM)、アムステルダム大学、アムステルダム自由大学、オランダ科学研究機構(NOW)と共同でナノリソグラフィ研究所(INL)を設立する。最初のプログラムはEUV(極端紫外線)を用いたリソグラフィ技術。研究予算は10年間で1億ユーロ。

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