露光装置と電子顕微鏡投入、研究開発から量産向けまで（アドバンテスト）

20130318電波新聞4面

　ナノメートル対応の電子ビーム露光装置と測長型電子顕微鏡を半導体検査装置大手のアドバンテストが公開した。電子ビーム露光装置「F7000」は1xナノメートルの高描画精度で、ウエハやナノインプリント用テンプレート、先端LSI、フォトニクス、MEMS、ナノ加工などをサポートする。同社独自のキャラクタ・プロジェクション露光技術により、従来のポイントビームに比べて数百倍のスループットを実現している。多次元観察・測長走査型電子顕微鏡、MVM-SEM「E3310」は1xナノメートルノードプロセス開発と22ナノメートル世代以降の量産デバイス用次世代ウエハー全自動インラインに対応する。